Monowave 300 為微波合成研究提供了一個全新和先進的工具，使微波合成達到了前所未有的可靠性和性能。

Monowave 300提供300C和30 bar（435psi）的單模微波工作溫度和壓力，為合成方法開發(fā)和反應優(yōu)化提供了全新空間。

Monowave 300的微波場密度保證了在任何反應體積、任何反應溶劑都能得到可重復的和出色的加熱速率，無需使用任何輔助加熱元件。先進的紅寶石晶體發(fā)光光纖傳感器保證了實時的反饋控制，同時也實現(xiàn)了的溫度測量。

超乎想象

Monowave 300可以使您能在以前不可能達到的條件下使用某些試劑和溶劑。使您能突破常規(guī)單模合成的限制進行方法的開發(fā)，來研究溫度和壓力的提高對反應活性和反應過程的影響。

就利用Monowave 300的高效攪拌和標準內(nèi)置溫度測量來試一下您的個微波反應。紙上沒有吹噓，但是終究百聞不如一見。。。。

您能感受到的獨特優(yōu)勢
 快速和一致的加熱
 方便內(nèi)部溫度測量
 的準確性和再現(xiàn)性
 新方法開發(fā)的新空間
 強力的攪拌有助益混合
 用戶友好的智能軟件
 內(nèi)置8.4’’觸摸屏控制器

滿足多領域的應用的伙伴

制藥研究：
 方法開發(fā)和優(yōu)化
 構建單元合成
 中間體修飾和骨架分子修飾

有機化學:
 雜環(huán)合成
 金屬催化
 鍵形成反應
 縮合反應
 加環(huán)反應
 固相合成

生物醫(yī)藥:
 衍生反應
 多肽合成

材料化學:
 納米顆粒制備
 分子篩合成
 高分子材料合成

--實現(xiàn)的單模合成條件：300C和30 bar（435psi）
--850W 連續(xù)非脈沖微波
--的微波場密度
--超常的加熱速度（3-9C/秒）
--600rpm高效磁力攪拌速度
--自動調(diào)諧微波腔保證不同體積和極性的溶劑的高效加熱

--- 全面反應控制記錄
 內(nèi)置液壓傳感器使反應范圍更廣
內(nèi)置紅外溫度傳感器進行常規(guī)溫度測量
先進的光纖溫度傳感器實現(xiàn)對反應的控制
自動式氣動控制過壓安全釋放功能


--- 8.4英寸觸摸屏控制系統(tǒng)
全新智能控制軟件，具有邏輯觸摸屏導航
明亮的大控制圖標使操作簡單容易
不同操作者設定不同控制權限
內(nèi)置AFAP快速加熱模式或自己設定多步反應程序
重要樣品可設定優(yōu)先排隊選項

---- 完整的數(shù)據(jù)管理
彩色反應曲線圖同時顯示所有相關參數(shù)
局部放大功能進行可獲得更詳細信息
方法庫多可存1000個實驗
可通過USB進行數(shù)據(jù)導出
直接生成pdf格式的反應