儀器簡(jiǎn)介：
SUPRA™系列產(chǎn)品配備有經(jīng)過改進(jìn)的第三代GEMINI®鏡筒、概念新穎的樣品臺(tái)、智能化硬件控制板和新型高效率的透鏡內(nèi)二次電子探測(cè)器。
SUPRA™系列場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡是卡爾蔡司半導(dǎo)體事業(yè)部的納米技術(shù)系統(tǒng)部向市場(chǎng)推出的功能多的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡。具有當(dāng)前先進(jìn)的儀器所具有的所有特征：如在圖像質(zhì)量一流時(shí)的超高分辨率、工作電壓切換方便、出色的束流穩(wěn)定性、全分析型樣品室、通過基于Windows® XP的SmartSEM™控制軟件實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)便的操作等顯著特點(diǎn)。在研究和發(fā)展的應(yīng)用中、失效分析和質(zhì)量保證等方面，SUPRA™系列場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡可提供迅速的、重復(fù)性好的、高可靠性的結(jié)果。
SUPRA™系列的多種儀器提供了全面的成像解決方案，可滿足半導(dǎo)體、材料分析、藥品制造和生命科學(xué)等領(lǐng)域中苛刻的應(yīng)用要求。對(duì)于不導(dǎo)電樣品，采用可變壓力（VP）技術(shù)的增強(qiáng)型可變壓力二次電子探測(cè)器（VPSE）可以得到一流的圖像和分析結(jié)果。GEMINI®鏡筒具有無與倫比的成像能力，尤其是在工作電壓低于1kV時(shí)成像能力尤為出色，這就使得SUPRA™成為適合所有納米科學(xué)應(yīng)用的成像工具。
技術(shù)參數(shù)：
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| 分辨率 | 1.3 nm @ 15 kV 2.1 nm @ 1 kV 5.0 nm @ 0.1 kV 2.0 nm @ 30 kV（VP模式） |
| 分辨率 | 1.0 nm @ 15 kV 1.7 nm @ 1 kV 4.0 nm @ 0.1 kV 2.0 nm @ 30 kV（VP模式） |
| 加速電壓 | 0.1 - 30 kV |
| 束流 | 4 pA - 10 nA（可選配20 nA） |
| 放大倍數(shù) | 12 - 900,000x |
| 電子槍 | 熱場(chǎng)發(fā)射型 |
| VP真空度 | 2 - 133 Pa |
| 標(biāo)準(zhǔn)探測(cè)器 | In-lens二次電子探測(cè)器與樣品室內(nèi)ET探測(cè)器 VP型號(hào)采用VPSE探測(cè)器 |
| 圖象處理 | 7種積分和平均模式 |
| 系統(tǒng)控制 | 基于Windows®XP的SmartSEM™ |
主要特點(diǎn)：
在整個(gè)電壓范圍內(nèi)的超高分辨率，
電壓范圍至0.1 kV，所需調(diào)整極少,
高束流，高穩(wěn)定性，
高效In-lens二次電子檢測(cè)器，可實(shí)現(xiàn)高分辨率的表面成像，
增強(qiáng)型VPSE探測(cè)器，可實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電試樣的成像
基于Windows® XP的SmartSEM™控制軟件，操作簡(jiǎn)便
SUPRA™ 40/40VP
是SUPRA™系列中使用多的產(chǎn)品，具有大型樣品臺(tái)，VP工作模式，尤其適合于失效分析、過程控制和低溫應(yīng)用。
SUPRA™ 55/55VP
SUPRA™系列中多功能的產(chǎn)品，具有超高分辨率與全面分析應(yīng)用的能力。
WDS系列
適用于SUPRA™ 55、SUPRA™ 55 VP及ULTRA55
SUPRA™ 60/60VP
擁有大樣品室以及6英寸超優(yōu)中心（super eucentric）樣品臺(tái)和8英寸樣品預(yù)抽室，適合對(duì)硅片進(jìn)行全面的分析，也非常適合需要檢查大型樣品的用戶。
