產(chǎn)品品牌：

密維

類型：

光切法顯微鏡

9J光切法顯微鏡 儀器用途： 具有相同頻率、相同的振動方向和恒定相位差的光線，在空間疊加會發(fā)生干涉現(xiàn)象，這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測特點對試樣表面上高度極微小差別進行測量。 這類顯微鏡依據(jù)所測光潔度▽3-▽9/0.8-80um為光切法顯微鏡，▽10-▽14/1-0.03um為干涉顯微鏡。適用于測量零件表面刻線，鍍層深度等，配以特殊的附件還能測量顆粒加工紋路面，低反射率的工件表面，對大型工件作表面測量時，可將儀器倒置在工件上。 主要技術(shù)規(guī)格： 1、測量表面光潔度范圍：▽3-▽9(相當不平度0.8-80um) 2、表面光潔度（級別）：9、8-7、6-5、4-3 3、所需物鏡：60倍N.A.0.55、30倍N.A.0.40、                              14倍N.A.0.20、7倍N.A.0.12 4、總放大倍數(shù)：510X、260X、120X、60X 5、物鏡組件工作距離(mm):0.04、0.2、2.5、9.5 6、視場（mm）:0.3、0.6、1.3、2.5 7、不平寬度：用測微目鏡：0.7微米~2.5毫米 用座標工作臺：（0.01~13）毫米 8、儀器重量約： 23公斤