樹脂和氣硅高速納米分散機(jī)，氣硅和樹脂高速納米分散機(jī)，二氧化硅納米高速分散機(jī)

如何解決氣硅在樹脂中分散，并解決團(tuán)聚:反應(yīng)釜1中配好樹脂和氣硅，然后使用齒輪泵的吸力(流量可調(diào))使物料通過分散器，打到反應(yīng)釜2，期間檢測(cè)反應(yīng)釜2中物料的分散情況是否達(dá)標(biāo)。所謂納米粉體的團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩(wěn)定狀態(tài)，因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團(tuán)聚，形成團(tuán)聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對(duì)于軟團(tuán)聚機(jī)理，人們的看法比較一致，即，軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。對(duì)于硬團(tuán)聚，不同化學(xué)組成不同制備方法有不同的團(tuán)聚機(jī)理，無法用統(tǒng)一的理論來解釋。因此需要采取一些特殊的方法來對(duì)其進(jìn)行控制。氣相二氧化硅有效發(fā)揮作用的關(guān)鍵是確保其在樹脂中獲得適當(dāng)?shù)姆稚?。分散設(shè)計(jì)越好，則有效性越好。對(duì)樹脂行業(yè)而言，氣相二氧化硅的分散可以使用多種方法，例如碾磨，高速剪切，球磨，砂磨，超聲波分散等等，其中兩種方法使用的更多。就主要的分散步驟而言也有兩種，即所謂的一步法和兩步法一步法是指將氣相二氧化硅加入樹脂中直接得到所需要的一定含量的產(chǎn)品，一步法的特點(diǎn)是生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，比較適合大批量，產(chǎn)品單一的生產(chǎn)。兩步法是先將氣相二氧化硅以較高的比例分散人樹脂制成母料，然后再加入樹脂稀釋到一定的比例。兩步法的特點(diǎn)是由于體系粘度較高，分散時(shí)剪切力較大，氣相二氧化硅的分散較好，適合多品種生產(chǎn)。目，國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時(shí)根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因1尚未對(duì)分散的作用有正確的認(rèn)識(shí)，許多生產(chǎn)商并未意識(shí)到分散的重要性;2不知道對(duì)終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評(píng)價(jià)，分散方式涂料中粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在涂料體系中的分散，一般是采用下述分散方法來達(dá)到分散效果。研磨分散:利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同，將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝，二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn)，部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用，通過加料縫，研磨料被分為兩部分，一部分附加在加料輥上回到加料溝，另一部分由中輥帶到中輥和輥之間的刮漆縫，在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫，研磨料又分成兩部分，一部分由輥帶到刮刀處，落入刮漆盤，另一部分再回到加料溝，如此經(jīng)幾次循環(huán)，可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低，能耗高，滿足不了大生產(chǎn)的需求。

影響分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2分散頭的剪切速率(越大，效果越好)

3分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒，中齒，細(xì)齒，chao細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好)4物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好)

5循環(huán)次數(shù)(越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就bu能zai好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

-剪切速率(s-1)=v速率(m/s)g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

-轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得chao細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000chaogao速分散機(jī)。其剪切速率可以chao過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000chao gao速分散機(jī)。其剪切速率可以chao過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機(jī)可以使粒徑范圍。剪切力更強(qiáng)，粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji高，無需其他輔助分散設(shè)備。

氣硅和樹脂高速納米分散機(jī)，樹脂和氣硅高速納米分散機(jī)，二氧化硅納米高速分散機(jī)