- 企業(yè)類(lèi)型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:德國(guó)
- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 進(jìn)料粒度:<100 mm
- 出料粒度:10 um
- 設(shè)備尺寸:450*350*750 mm
- 轉(zhuǎn)速:0-14000
藥用羥丙基甲基纖維素膠體磨,羥丙基甲基纖維素空心硬膠囊膠體磨,HPMC空心膠囊研磨分散機(jī)
對(duì)于許多中藥企業(yè),積推進(jìn)中藥創(chuàng)新,針對(duì)現(xiàn)有品種的改良創(chuàng)新,將會(huì)顯著提升企業(yè)品牌和市場(chǎng)價(jià)值。在劑型方面,基于中藥成分復(fù)雜、引濕性強(qiáng)等特性,植物膠囊無(wú)疑是一種不可多得的優(yōu)質(zhì)選擇,而對(duì)于在胃酸中不穩(wěn)定的中藥制劑、保健品以及各類(lèi)膳食補(bǔ)充劑而言,抗酸植物膠囊則能有效避免胃酸破壞,提高生物利用度,進(jìn)而顯著提升治療或保健效果。CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過(guò)粉碎型研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果,出料粒徑可以微納米。

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2研磨頭的剪切速率(越大,效果越好)
3研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)4物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)5循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
-剪切速率(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉(zhuǎn)子間距(m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
-轉(zhuǎn)子的線速率
-在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60
CMSD2000系列研磨分散機(jī)選型表:

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
羥丙基甲基纖維素空心硬膠囊膠體磨,藥用羥丙基甲基纖維素膠體磨,HPMC空心膠囊研磨分散機(jī)






詢(xún)價(jià)











