- 品牌/商標(biāo)：衡工
- 企業(yè)類(lèi)型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：北京
（光伏專(zhuān)用/科研通用兩種應(yīng)用選擇）
HG-ES光譜橢偏儀是針對(duì)光伏太陽(yáng)能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能光譜橢偏儀。
HG-ES光譜橢偏儀用于測(cè)量和分析光伏領(lǐng)域中多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k），典型樣品包括：絨面單晶和多晶太陽(yáng)電池上的單層減反膜（如SiNx，SiO2，TiO2，Al2O3等）和多層減反膜（如，SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx ?/Al2O3?等），以及薄膜太陽(yáng)電池中的多層納米薄膜。
特點(diǎn)：
· 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測(cè)量
· 晶體硅多層減反膜檢測(cè)
· 秒級(jí)的快速測(cè)量
· 一鍵式儀器操作
· 高品質(zhì)相位補(bǔ)償
· 氙燈光源強(qiáng)度優(yōu)化系統(tǒng)
· 退偏糾正
· 自動(dòng)可變?nèi)肷浣嵌?span lang="EN-US">
· 背照式CCD光譜采集系統(tǒng)
· 自動(dòng)XYZ載物臺(tái)、真空吸附
·
應(yīng)用：
HG-ES光譜橢偏儀的應(yīng)用覆蓋了傳統(tǒng)光譜橢偏儀所測(cè)量的光面基底上的單層和多層納米薄膜，典型應(yīng)用包括：半導(dǎo)體（如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）、平板顯示（TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等）、功能性涂料：（增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類(lèi)、Al2O3表面鍍層和處理等)、生物和化學(xué)工程（有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等）等。
技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
光譜范圍 | 240nm-930nm（絨面測(cè)量時(shí)為350-850nm）(光譜范圍可選) |
單次測(cè)量時(shí)間 | 10s,取決于測(cè)量模式 |
膜層厚度（1） | 0.05nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率（1） | 1x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
入射角度 | 40°-90°自動(dòng)調(diào)節(jié) |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度） |
樣品臺(tái)尺寸 | 一體化樣品臺(tái)輕松變換可測(cè)量單晶或多晶樣品 |
兼容125* | |
樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié)：± |
二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° | |
樣品對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) | |
軟件 | ?多語(yǔ)言界面切換 |
?太陽(yáng)能電池樣品預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 | |
?安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員） | |
?方便的材料數(shù)據(jù)庫(kù)以及多種色散模型庫(kù) | |
?豐富的模型數(shù)據(jù)庫(kù) |
注：(1)：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
