產(chǎn)品介紹：P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng) / 緊湊型等離子體刻蝕機

配備真空泵的P-10是一款成套臺式等離子蝕刻系統(tǒng)，因其可靠的設計、較低的價位，使其成為滿足中小企業(yè)、醫(yī)學實驗室和研發(fā)機構的一款緊湊型等離子蝕刻設備。

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)具有三個獨特的等離子工作模式：
1）反應離子蝕刻（RIE），
2）普通的等離子清洗（Plasma Cleaning）和等離子體刻蝕(Plasma Etching)
3）P-10具有多功能等離子工藝配置，一臺具備各向異性（anisotropic）和各向同性(isotropic）等離子刻蝕處理的系統(tǒng)。 并且配有可拆卸的托盤設置。

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng) 縱覽

全鋁合金材質(zhì)真空艙可以容納超過1500平方厘米的處理表面積，及配備三層處理托盤支架。 內(nèi)置框架采用了簡潔的設計，噴涂工業(yè)粉末涂層，以保護等離子處理環(huán)境免于污染。

當P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)在反應離子蝕刻（RIE）模式下工作時，專門設計的電極用于定向等離子體處理，即起到垂直向下的蝕刻效果。 此種等離子工藝主要是用于蝕刻微孔或清洗化學品無法達到的空間，因為液體的流動往往只限于在這些小的空間。

臺式等離子蝕刻系統(tǒng)應用范圍包括醫(yī)療設備，太陽能電池，印刷電路板（PCB），連接器，MEMS，納米技術，晶圓級封裝，以及許多其他相關的半導體工藝。

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)特點

采用臺式等離子蝕刻系統(tǒng)等離子清洗提高了任何材料表面處理的均勻性，減少或消除不必要且昂貴的化學試劑廢物排放。簡單易用，直觀的觸摸屏界面提供等離子操作界面，控制等離子刻蝕的各個方面，確保等離子工藝的重復性。 我們可以提供定制真空艙，電極配置，滿足被蝕刻工件或工藝需要的定制平板電極，RIE（反應離子刻蝕）和等離子處理過程的溫度控制。

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)技術規(guī)格

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)配置
真空艙體材質(zhì)：全鋁合金
電極設置：3套規(guī)格為 23cmX 41cm 電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：600瓦@100MHz射頻電源;
工藝氣體控制：單套 O-50cc質(zhì)量流量控制器
真空監(jiān)測系統(tǒng)：皮拉尼真空計0-1托
控制器系統(tǒng)：微處理器系統(tǒng)，配備觸摸屏界面
真空泵浦系統(tǒng)：8CFM氧氣服務真空泵系統(tǒng)，配備油霧分離器

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)可選配置：
600瓦@13.56MHz射頻電源;
真空艙靜電屏蔽
工藝溫度控制
定制電極配置
RIE（反應離子刻蝕電極）
真空泵氮或CDA吹洗

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)規(guī)格
P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)：43cm X 71cm X 76cm  凈重：70公斤
P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)配套真空泵：15cm X 46cm X 23cm 凈重：31公斤

P-10臺式等離子蝕刻系統(tǒng)設備外部安裝要求
電源：380/3/50 Hz
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
工藝氣體壓力：0.1MPa,
系統(tǒng)環(huán)境溫度：29攝氏度

如果您對該臺式等離子蝕刻系統(tǒng)感興趣，請隨時聯(lián)系我們。

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