巖石納米  煤球納米  混泥土納米  分辨率可達(dá)500nm。

X射線斷層掃描儀  巖石掃描納米 混泥土斷層掃描納米  煤柱斷層掃描納米  納米焦點(diǎn)三維掃描系統(tǒng) x射線顯微鏡  X射線三維顯微鏡  全巖心三維掃描儀 X射線高分辨工業(yè)

納米作為新一代的高分辨率透視檢測(cè)技術(shù)平臺(tái)，采用了雙探測(cè)器設(shè)計(jì)方案（如下圖所示），分別是率平板探測(cè)器和率光耦探測(cè)器。用戶可以根據(jù)不同的測(cè)樣需求切換兩套光路系統(tǒng)，可以利用平板探測(cè)器對(duì)樣品進(jìn)行大范圍整體觀察，視野可達(dá)130mm，找到特征目標(biāo)區(qū)域，然后利用光耦探測(cè)器對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行高分辨成像，且具有多種不同放大倍率可供選擇.

  平板探測(cè)器依據(jù)普通光學(xué)投影放大原理，如下圖，樣品的幾何放大倍率取決于光源到樣品和探測(cè)器相對(duì)位置距離的比例關(guān)系。

在普通顯微系統(tǒng)上要獲得高的放大倍率，須要使樣品無(wú)限靠近光源，這對(duì)于較大樣品掃描時(shí)產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)半徑，以及進(jìn)行原位裝置搭載實(shí)驗(yàn)的用戶，具有很大的局限性。無(wú)法滿足他們希望獲得高放大倍率的需求。

  光耦探測(cè)器依據(jù)二級(jí)光學(xué)放大原理，如下圖，基于投影放大原理實(shí)現(xiàn)的光學(xué)放大，再通過(guò)一系列光學(xué)物鏡，形成的二級(jí)光學(xué)放大，實(shí)現(xiàn)樣品無(wú)需靠近光源，即可滿足用戶獲得高放大倍率的需求。

設(shè)備分辨率500nm
樣品尺寸 300nm
檢測(cè)樣品重量 2kg/15kg可選
多種掃描成像模式 旋轉(zhuǎn)掃描，螺旋掃描 ，偏置掃描 ，角度掃描，視野掃描等
微焦x涉嫌管電壓 90kv/150kv/190kv
另有多款60kv-300kv(可選)
雙探測(cè)器
高分辨物鏡耦合探測(cè)器 鏡頭 4倍 10倍 20倍，40倍 可選  

分辨率2048*2048 16bit 熱電冷卻-55°

平板探測(cè)器 250*200mm/130*130mm
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