- 品牌/商標：MYCRO
- 企業類型：貿易商
- 新舊程度：全新
- 原產地：美國
NQ光刻機/曝光機的應用領域：
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻機/曝光機的產品特點：
◆ 采用雙面對準技術，可達到0.5微米；
◆ 光刻機的分辨率可達到0.6微米；
◆ 光強均勻度可以達到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高靈敏度光強可控電源
需要更詳細的N&Q恩科優光刻機產品資料，
請與邁可諾技術有限公司中國營銷服務中心區域辦公室聯系!
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◆Mircro-optics
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◆ 光刻機的分辨率可達到0.6微米；
◆ 光強均勻度可以達到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
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