MYCRO提供美國原裝的單晶圓片和掩膜的清洗設備，均勻度高和國際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對襯底表面進行壞的清洗。表面顆粒的去除可以調(diào)整化學試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒。化學配比系統(tǒng)設計了小的化學試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學試劑在襯底表面均勻的分布。這個設計也提供了的化學工藝時間的控制，控制聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
　　根據(jù)用戶的應用需要，某些特定選項將有助于設備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。
　　具體應用
　　清洗功能：
　?。烤A片
　??？藍寶石外延片
　??？晶圓框架上的芯片
　?。匡@示面板
　??？ITO膜顯示材料
　??？有圖形掩膜和無圖形掩膜
　　？掩膜坯料
　?。勘∧な窖谀?
　??？接觸式掩膜
　　光刻處理工藝：
　??？SPM剝離
　??？光刻膠涂膜
　?。抗饪棠z剝離工藝
　　刻蝕：
　?。拷饘倏涛g（鋁，銅，鉻，鈦）
　　白骨化清洗：
　??？在晶圓片上和雙氧水的混合液
　?。考t外加熱
　??？刷洗
　??？兆聲雙氧水清洗
　?。繜岬退Ω? 產(chǎn)品特點：
　??？針對21英寸外徑或15x15英寸的基底
　??？聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水，清洗刷，熱去離子水，高壓去離子水，熱氮氣）
　?。炕瘜W臂
　??？帶化學的可變速清洗刷
　??？觸屏用戶界面
　?。渴謩由?
　??？鎖和報警器
　?。空嫉爻叽?0"D　x　26"W
　　可選配項：
　??？化學試劑傳送單元
　??？白骨化清洗
　??？臭氧發(fā)生器
　??？氫化雙氧水發(fā)生器
　??？高壓雙氧單元
　??？氫過氧化物
　　？紅外加熱
　?。侩p氧水循環(huán)裝置
　?。繖C械手上單元
　??？帶EFEM和SMIF界面的集群系統(tǒng)