The Plaax 800C 是設計利用低頻率（100KHz）產生的離子的撞擊清潔作用的原理來應用在發(fā)光二體
的產品上，增加打缐的結合力與表面改質。
低頻率的電源協(xié)助產生較高密度的離子震盪來更的清潔，使得制程效率更加的。
本系統(tǒng)包含一個大容量的腔體，可以放置六個彈匣的電結構以提供客戶大量穩(wěn)定生產使用。
◆操作模式：彈匣批次式置入
◆出且沒有靜電破壞。
利用中頻產生高密度電漿，并讓清洗更率更均勻。
◆制程應用：
-利用物理和化學的作用，針對金屬的結合面作與清洗增加打缐結合強度
-增加表面能，讓填充與點膠的流動性在膠與基板間的結合性
-利用不同氣體種類可以表面改質
◆腔體尺寸：
-寬430 X 深435 X 高610 mm.
◆中空陰電
-6彈匣/每批次
◆高的電源輸出：
-半自動匹配調整輸入能量
-小巧簡潔式的電源供應器
-輸出能量為1000W
◆系統(tǒng)：
-保護電路與螢幕監(jiān)控
-低頻輸出端
-腔門戶所開關
-真空測漏監(jiān)控
-電磁輻射干擾保護
的產品上，增加打缐的結合力與表面改質。
低頻率的電源協(xié)助產生較高密度的離子震盪來更的清潔，使得制程效率更加的。
本系統(tǒng)包含一個大容量的腔體，可以放置六個彈匣的電結構以提供客戶大量穩(wěn)定生產使用。
◆操作模式：彈匣批次式置入
◆出且沒有靜電破壞。
利用中頻產生高密度電漿，并讓清洗更率更均勻。
◆制程應用：
-利用物理和化學的作用，針對金屬的結合面作與清洗增加打缐結合強度
-增加表面能，讓填充與點膠的流動性在膠與基板間的結合性
-利用不同氣體種類可以表面改質
◆腔體尺寸：
-寬430 X 深435 X 高610 mm.
◆中空陰電
-6彈匣/每批次
◆高的電源輸出：
-半自動匹配調整輸入能量
-小巧簡潔式的電源供應器
-輸出能量為1000W
◆系統(tǒng)：
-保護電路與螢幕監(jiān)控
-低頻輸出端
-腔門戶所開關
-真空測漏監(jiān)控
-電磁輻射干擾保護
