分子渦輪高真空系統(tǒng)，CPU程序全自動(dòng)控制，觸膜屏用戶界面，可鍍多種膜材，也可鍍相對較厚的膜。具有快速濺射易氧化和不氧化金屬（貴金屬）靶材的功能，可選各種濺射靶材，包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。
　　
　　可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。
　　標(biāo)準(zhǔn)配置的樣品臺(tái)，無傾角，高度不可調(diào)。如果需要傾斜樣平臺(tái)，需要另外選擇。
　　
　　主要技術(shù)指標(biāo)：
　　尺寸和重量：儀器機(jī)箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高（總高：650mm）
　　儀器總重量：33.4Kg
　　工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，152mm（內(nèi)）x 127mm高
　　觸摸屏全圖像用戶界面
　　樣品臺(tái)：標(biāo)配件（無傾角，高度不可調(diào)），轉(zhuǎn)速8-20rpm
　　真空系統(tǒng)：
　　渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵（標(biāo)準(zhǔn)配置里面）
　　旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：雙級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵（需要另購）
　　真空度：5x10-3-----5x10-1 mbar
　　濺射時(shí)間：長60分鐘
　　濺射靶材：57mm＆Oslash；x 0.3mm Chromium（標(biāo)準(zhǔn)配置：鉻靶材一個(gè)）