等離子刻蝕機(jī)
   等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
等離子刻蝕機(jī)的應(yīng)用
　　等離子體處理可應(yīng)用于的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也問(wèn)題。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。等離子刻蝕機(jī)的典型應(yīng)用包括：
　　等離子體清除浮渣
　　光阻材料剝離
　　表面處理
　　各向異性和各向同性失效分析應(yīng)用
　　材料改性
　　包裝清洗
　　鈍化層蝕刻
　　聚亞酰胺蝕刻
　　增強(qiáng)粘接力
　　生物應(yīng)用
　　聚合反應(yīng)
　　混合物清洗
　　預(yù)結(jié)合清洗
等離子刻蝕的影響因素
–氣壓（Pressure）?！　?
–溫度（Temperature）溫度會(huì)刻蝕率?！　?
–Micro-loading　　
–刻蝕后腐蝕（Post-etch corrosion）?！　?
–殘留物（residual）。