E型電子束蒸發源
　　一、概述
　　本蒸發源系坩堝由電機直接驅動、電子束偏轉角為270º、用于蒸鍍各種金屬和非金屬材料的磁偏轉式E型電子束蒸發裝置。
　　用于真空鍍膜過程中電子束蒸發鍍膜。實際中廣泛應用于：增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學、高反鏡、熱／冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器等。電子束蒸發能夠很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均勻性，增加鍍膜的一致性和重復性，薄膜易于控制。
　　
　　主要特點：
　　結構
　　充分借鑒國內外的電子的優點，具有的水冷和密封結構，經多次長時間的，電子能夠在很大的電子束流下長期穩定工作。
　　可在高溫環境下長期工作
　　在通常鍍膜工藝中，工件需加熱至很高溫度，整個真空室內溫度很高，而本電子良好的冷卻系統能電子在 400℃的高溫環境下長期正常工作。
　　適用于反應氣體
　　在反應沉積鍍膜過程中，通常需要用氧氣或氮氣等與蒸發的膜料進行反應沉積所需薄膜，在此過程中增加反應氣體的和能量，對形成高質量薄膜。本電子可以在通入反應氣體下正常工作。
　　安裝簡便、維護簡單運行成本低
　　本電子的安裝簡單，耗材只是燈絲及磁件，日常維護工作主要是更換燈絲及磁件。
　　操作簡單
　　電子的操作簡單，通過調節電子的電子束束流以及掃描幅度即可使電子穩定工作（手動及全自動）。控制面板上能直接觀察到燈絲電壓、電流。
　　
　　二、主要技術參數
　　1、電子束偏轉角：270º
　　2、陽電壓：6KV、8KV二檔
　　3、陰加熱電源：AC 3V＋3V，60A可調
　　4、束流：間冷坩堝0～500mA、直冷坩堝0～1A
　　5、坩堝容量（標準型）4孔間冷：4×17mL；4孔直冷：4×22mL；環形直冷：85mL
　　6、磁場電源
　　X偏轉電流：&plun;2A可調
　　掃描頻率：10～250HZ
　　Y偏轉電流：&plun;2A可調
　　掃描頻率：10～250HZ
　　7、啟動真空度：6.7×10-a
　　8、坩堝定位（四孔坩堝）：電控自動或手動點控
　　9、坩堝冷卻水
　　進水溫度：≤25℃
　　進水壓力：≥0.2MPa
　　水流量：≥8L／min
　　10、電子體接地電阻：≤4Ω