儀器的用途
XPH-300V透反射熱臺偏光顯微鏡是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子等常用的實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結(jié)晶過程中的狀態(tài)和各種變化。專為材料學、生物化學、冶金學、化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結(jié)晶過程中的形態(tài)，結(jié)晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應(yīng)；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態(tài)觀察；地質(zhì)材料偏光形態(tài)觀察；無機晶體材料觀察，對含有結(jié)晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。
技術(shù)參數(shù)
1.目鏡類別放大倍數(shù)視場（mm）
大視野目鏡 10Xφ18
分劃目鏡 10Xφ18
2.物鏡類別放大倍數(shù)數(shù)值孔徑（NA）蓋玻片厚
無應(yīng)力平場
消色差物鏡 5X 0.12-
10X 0.25-
40X 0.65-
60X 0.85-
3.總放大倍數(shù)：40X---600
4.目鏡管：轉(zhuǎn)軸式（傾斜30°），內(nèi)置檢偏器，可自由切換正常觀察與偏光觀察，推入式
勃氏鏡，中心可調(diào)，λ補償器，λ/4補償器，石英鍥補償器
5.照明：6V 20W鹵素燈，亮度可調(diào)，起偏器可360°旋轉(zhuǎn)有0、90、180、270四個讀數(shù)
反射照明：6V 20W鹵素燈，亮度可調(diào)，起偏器可旋轉(zhuǎn)；
6.載物臺：機械式附加旋轉(zhuǎn)臺面尺寸φ100mm，360°旋轉(zhuǎn)
7.調(diào)焦機構(gòu)：粗微動同軸，齒輪轉(zhuǎn)動，帶限位及調(diào)節(jié)松緊機構(gòu)
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調(diào)
9.霉系統(tǒng)：霉
10.高偏光熔點熱臺 XPH-300
?、俟ぷ鳒囟龋菏覝刂?20℃（可達350℃）
②起始溫度設(shè)定速率：50℃至300℃小于12min；300℃至50℃小于15min
?、蹆x器溫度小讀數(shù)：0.1℃
④加熱臺溫度控制準確度：室溫-200℃時：&plun;0.5℃；200-320℃時：&plun;1℃
?、萜鹗紲囟仍O(shè)定準確度：&plun;1℃
?、蘧€性升溫速率（℃/min）：0.2；0.5
降溫速度：可設(shè)置降到到指定的溫度，從而在此溫度的恒溫。
?、呔€性升溫速率偏差：&plun;10%
系統(tǒng)組成
電腦型（XPH-300V）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D（圖像采集）5.XPH熱臺
數(shù)碼型（XPH-300D）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數(shù)碼相機 4.XPH熱臺
總放大參考倍數(shù) XPH-300V型：50--3400倍 XPR-300D型：50--2000倍六、選購件
1.目鏡：16X（Φ11mm）
2.物鏡：20X 50X 80X 100X
3.移動尺（30X25mm）4.偏光顯微鏡分析軟件
XPH-300V透反射熱臺偏光顯微鏡是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子等常用的實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結(jié)晶過程中的狀態(tài)和各種變化。專為材料學、生物化學、冶金學、化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結(jié)晶過程中的形態(tài)，結(jié)晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應(yīng)；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態(tài)觀察；地質(zhì)材料偏光形態(tài)觀察；無機晶體材料觀察，對含有結(jié)晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。
技術(shù)參數(shù)
1.目鏡類別放大倍數(shù)視場（mm）
大視野目鏡 10Xφ18
分劃目鏡 10Xφ18
2.物鏡類別放大倍數(shù)數(shù)值孔徑（NA）蓋玻片厚
無應(yīng)力平場
消色差物鏡 5X 0.12-
10X 0.25-
40X 0.65-
60X 0.85-
3.總放大倍數(shù)：40X---600
4.目鏡管：轉(zhuǎn)軸式（傾斜30°），內(nèi)置檢偏器，可自由切換正常觀察與偏光觀察，推入式
勃氏鏡，中心可調(diào)，λ補償器，λ/4補償器，石英鍥補償器
5.照明：6V 20W鹵素燈，亮度可調(diào)，起偏器可360°旋轉(zhuǎn)有0、90、180、270四個讀數(shù)
反射照明：6V 20W鹵素燈，亮度可調(diào)，起偏器可旋轉(zhuǎn)；
6.載物臺：機械式附加旋轉(zhuǎn)臺面尺寸φ100mm，360°旋轉(zhuǎn)
7.調(diào)焦機構(gòu)：粗微動同軸，齒輪轉(zhuǎn)動，帶限位及調(diào)節(jié)松緊機構(gòu)
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調(diào)
9.霉系統(tǒng)：霉
10.高偏光熔點熱臺 XPH-300
?、俟ぷ鳒囟龋菏覝刂?20℃（可達350℃）
②起始溫度設(shè)定速率：50℃至300℃小于12min；300℃至50℃小于15min
?、蹆x器溫度小讀數(shù)：0.1℃
④加熱臺溫度控制準確度：室溫-200℃時：&plun;0.5℃；200-320℃時：&plun;1℃
?、萜鹗紲囟仍O(shè)定準確度：&plun;1℃
?、蘧€性升溫速率（℃/min）：0.2；0.5
降溫速度：可設(shè)置降到到指定的溫度，從而在此溫度的恒溫。
?、呔€性升溫速率偏差：&plun;10%
系統(tǒng)組成
電腦型（XPH-300V）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D（圖像采集）5.XPH熱臺
數(shù)碼型（XPH-300D）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數(shù)碼相機 4.XPH熱臺
總放大參考倍數(shù) XPH-300V型：50--3400倍 XPR-300D型：50--2000倍六、選購件
1.目鏡：16X（Φ11mm）
2.物鏡：20X 50X 80X 100X
3.移動尺（30X25mm）4.偏光顯微鏡分析軟件
