平面平晶是以光波干涉原理為基礎，利用平晶的測量面與試件的被測量面之間所出現的干涉條紋來測量被測量面的平面度。
平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高的平面件，例如，平面光學件、平臺、平板、導軌、密封件等。平面平晶適用于計量單位、實驗室作為標準平面和樣板。
平面平晶的技術參數（備注：規(guī)格可根據客戶要求定做）
平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高的平面件，例如，平面光學件、平臺、平板、導軌、密封件等。平面平晶適用于計量單位、實驗室作為標準平面和樣板。
平面平晶的技術參數（備注：規(guī)格可根據客戶要求定做）
| 平面直徑d(mm) | 基本參數 | ||||
| 1級 | |||||
| d范圍內 | 2/3d范圍內 | ||||
| 30 45 60 | 0.03 | ---- | |||
| 80 100 150 | 0.05 | 0.03 | |||
| 200 250 300 | 0.08 0.1 0.15 | 0.05 0.05 0.09 | |||