在近代科學(xué)技術(shù)的許多領(lǐng)域中對各種薄膜的研究和應(yīng)用日益廣泛。因此，更加和的測定給定薄膜的光學(xué)參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實(shí)際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測定光學(xué)參數(shù)，如：布儒斯特角法測介質(zhì)膜的折射率，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、高、非破壞性測量等優(yōu)點(diǎn)，因而，橢圓偏振法測量已在光學(xué)、半導(dǎo)體、生物、等諸多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

儀器采用消光法自動(dòng)測量薄膜厚度和折射率，具有高、靈敏度高以及方便測量等特點(diǎn)；

光源采用氦氖激光器，功率穩(wěn)定、波長高；

儀器配有生成表、查表以及計(jì)算等軟件，方便用戶使用。

規(guī)格與主要技術(shù)指標(biāo)：

測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm；折射率范圍：1-10

測量小值：≤1nm   入射光波長：632.8nm   光學(xué)中心高：80mm

允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤18mm    

偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05°

外形尺寸：680*390*320mm     

測量膜厚和折射率重復(fù)性分別為：±0.5nm和±0.005

主機(jī)重量：25kg    入射角連續(xù)調(diào)節(jié)范圍：20°- 90°為0.05°

成套性：主機(jī)、電控系統(tǒng)、計(jì)算軟件