納米粒度測量——新動態光背散射技術Zeta電位測定儀，粒度分析儀，
ZetaPALS 高靈敏度Zeta電位及粒度分析儀
Zeta電位，粒度分析儀，Zeta電位測定儀，粒度分析儀，Zeta電位分析儀，納米粒度分析儀
隨著顆粒粒徑的減小，例如分子級別的大小，顆粒對光的散射效率急劇降低，使得經典動態光散射技術的自相關檢測（PCS）變得更加不確定。40多年 來，Microtrac公司一直致力于激光散射技術在顆粒粒度測量中的應用。作為行業的，早在1990年，細顆粒分析儀器 UPA（UltrafineParticle Analyzer）研發成功，次引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產生頻率變化的能譜概念，快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年，利 用背散射（Back-scattered）和異相多譜勒頻移（Heterodyne Doppler Frequency Shifts）技術，結合動態光散射理論和的數學處理模型，NPA150/250將分析范圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可四十，基本實現樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術采用可控參考穩定頻率，直接比照因顆粒的布朗運動而產生的頻率漂移，綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度， 較之于傳統的自相關技術，信號強度高出幾個數量級。另外，新型“Y”型梯度光纖探針的使用，實現了對樣品的直接測量，大的減少了背景噪音，了儀器的 分辨率。
Zeta電位測定儀：
美國麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）以其在激光衍射/散射技術和顆粒表征方面的見解，經過多年的市場調研和潛心研究，開發出新一代Nanotracwave微電場分析技術，融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體，無需傳統的比色皿，進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數據。與傳 統的Zeta電位分析技術相比，Nanotrac wave采用的“Y”型光纖探針光路設計，配置膜電產生微電場，操作簡單，測量，無需定位由于電泳和電滲等效應導致的靜止層，無需外功率電場，無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池，消除由于空間位阻（不同光學元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差異，分散介質的影響，顆粒間多重散射等）帶來的光學信號的損失，結果準確，重現性好。
粒度分析儀技術參數：
粒度分析范圍: | 0.8nm-6.5μm |
重現性： | 誤差≤1% |
Zeta電位測量范圍： | -200mV~200mV |
電導率： | 0-200ms/cm |
濃度范圍： | ppb-40% |
檢測角度： | 180° |
分析時間： | 30-120秒 |
準確性： | 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子 |
測量: | 無需預選，依據實際測量結果，自動生成單峰/多峰分布結果 |
理論設計溫度： | 0-90℃，可以進行程序升溫或降溫 |
兼容性： | 兼容任何溶劑及大多數酸性或堿性溶液 |
測量原理： | 粒度測量：動態光背散射技術和全量程米氏理論處理 |
光學系統： | 3mW780nm半導體固定位置激光器，通過梯度步進光纖直接照射樣品，在固定位置用硅光二管接受背散射光信號，無需校正光路 |
軟件系統： | 的Microtrac FLEX軟件提供強大的數據處理能力，包括圖形，數據輸出/輸入，個性化輸出，及各種文字處理功能，如PDF格式輸出, Internet共享數據，Microsoft Access格式（OLE）等。體積，數量，面積及光強分布，包括積分/微分百分比和其他分析統計數據。數據的完整性合21 CFR PART 11要求，包括口令保護，電子簽名和指定授權等。 |
外部環境： | 電源要求：90-240VAC，5A，50/60Hz |
配置： | 有內置和外置光纖測量探頭可選 |
Zeta電位測定儀，粒度分析儀，主要特點：
﹡ 采用新的動態光散射技術，引入能普概念代替傳統光子相關光譜法
﹡ 的“Y”型光纖光路系統，通過藍寶石測量窗口，直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布，在加載電流的情況下，與膜電對應產生微電場，測量同一體系的Zeta電位，避免樣品交叉污染與濃度變化。
﹡ 的異相多譜勒頻移技術，較之傳統的方法，獲得光信號強度高出幾個數量級，分析結果的性。
﹡ 的可控參比方法（CRM），能精細分析多譜勒頻移產生的能譜，分析的靈敏度。
﹡ 短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計，減少了多重散射現象的干擾，高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
﹡ 的快速傅利葉變換算法（FFT，Fast FourierTransform Algorithm Method）,處理檢測系統獲得的能譜，縮短分析時間。
﹡ 膜電設計，避免產生熱效應，能準確測量顆粒電泳速度。
﹡ 無需比色皿，毛細管電泳池或外加電池，需點擊Zeta電位操作鍵，一分鐘內即可得到分析結果
﹡ 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾，諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失，樣品池位置不同帶來的誤差，比色皿器壁的折射與污染，分散介質的影響，多重散射的衰減等，靈敏度
