■儀器指標(biāo)

1. 分光系統(tǒng)

　　光學(xué)系統(tǒng)：大面積1800條/mm刻線光柵，全封閉光學(xué)系統(tǒng)。

　　波長(zhǎng)范圍：190~900nm。

　　光譜帶寬：0.1、0.2、0.4、1.0、2.0nm五檔自動(dòng)可調(diào)。

　　波長(zhǎng)準(zhǔn)確度：≤0.15nm，波長(zhǎng)重復(fù)性: ±0.1nm。

　　基線漂移：靜態(tài)≤±0.002A/30分鐘，動(dòng)態(tài)≤±0.005A/30分鐘。

　　燈座：六燈自動(dòng)切換轉(zhuǎn)塔，自動(dòng)準(zhǔn)直。

　　電源：內(nèi)置燈雙陰電源。

2. 火焰原子化器

　　特征濃度（Cu）：0.015μg/mL/1%。

　　檢出限（Cu）：0.002μg/mL。

　　精密度：RSD≤0.5%。

　　燃燒頭：全鈦燃燒頭，50mm或100mm通用燃燒頭。

　　霧化器：玻璃霧化器，也可定制。

　　霧化室：高分子爆腐霧化室。

　　調(diào)節(jié)系統(tǒng)：全自動(dòng)PC控制火焰/石墨爐自動(dòng)切換，并自動(dòng)化，自動(dòng)點(diǎn)火。

　　保護(hù)：具有自動(dòng)保護(hù)功能，回火自動(dòng)氣路保護(hù)，乙炔漏氣報(bào)警、自動(dòng)關(guān)閉系統(tǒng)，出現(xiàn)異常自動(dòng)斷電。

3.石墨爐原子化器

　　特征量（Cd）：0.5×10 -12 g。

　　檢出限（Cd）：0.4×10 -12 g。

　　精密度：RSD≤3%。

　　加熱方式：縱向加熱。

　　保護(hù)：水流量、水溫、氣壓、石墨管接觸不良、過(guò)流及功率報(bào)警保護(hù)。

　　轉(zhuǎn)換方式：火焰/石墨爐自動(dòng)切換一體機(jī)，電子移動(dòng)平臺(tái)軟件操控，無(wú)需手動(dòng)拆卸。

　　加熱控溫方式：室溫~3000℃左右，全自動(dòng)控溫達(dá)20階，爐內(nèi)富集濃縮達(dá)20次，4種升溫方式，縱向光控監(jiān)測(cè)石墨管內(nèi)壁溫度。

4.背景校正

　　火焰：氘燈+自吸背景校正：可校正1A背景。

　　石墨爐：氘燈+自吸背景校正：可校正1A背景。

5. 數(shù)據(jù)處理

　　測(cè)量方式：火焰法、石墨爐法、氫化物法。

　　濃度計(jì)算方式：標(biāo)準(zhǔn)曲線法（1～3次曲線），自動(dòng)擬合，標(biāo)準(zhǔn)加入法。

　　重復(fù)測(cè)量次數(shù)：1~99次、計(jì)算平均值、給出標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差。

6. 自動(dòng)進(jìn)樣器（選配件）

　　進(jìn)樣盤70個(gè)樣品杯（2mL），6個(gè)25mL杯用于儲(chǔ)備液、空白及基體改進(jìn)劑，清洗瓶500mL，廢液瓶。

　　根據(jù)需要可任意指定樣品杯和試劑杯位置，進(jìn)行隨機(jī)編排，程序設(shè)定后，即可進(jìn)行全自動(dòng)分析。

　　自動(dòng)制作校準(zhǔn)曲線：自動(dòng)從單一標(biāo)準(zhǔn)溶液中配置出少3個(gè)不同濃度標(biāo)樣，直接進(jìn)入石墨管。

　　進(jìn)樣針小進(jìn)樣量1μL，增量0.1μL，進(jìn)樣100μL（10μL ~100μL的時(shí)候分析1%）。

　　自動(dòng)長(zhǎng)期記憶進(jìn)樣針位置，50μm。

　　石墨管孔坐標(biāo)微調(diào)范圍>±5mm。

7.氫化物發(fā)生器（選配件）

　　靈敏度（As）：0.15ng/mL/1%。

　　精密度RSD＜3％。

　　原子化器：T型電熱石英吸收管（鋼玉外套，）。

　　自動(dòng)化程度：只用一個(gè)啟動(dòng)鍵，輕按一下即可完成進(jìn)樣、發(fā)生、測(cè)定、清洗全過(guò)程，可以與主機(jī)聯(lián)機(jī)自動(dòng)讀數(shù)（主機(jī)須有此功能）。

　　可適用多種讀數(shù)方式：可適用多種讀數(shù)方式，峰高讀數(shù)、峰面積讀數(shù)，連續(xù)讀數(shù)。