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化學機械拋光技術(shù)(CP)，使金屬表面能達到一定的光亮度，且能使金屬具有鏡面效果，是將磨粒的機械研磨作用與氧化劑的化學作用有機地結(jié)合起來，可實現(xiàn)超精密無損傷表面加工。拋光液的性能對CP效果有非常重要的作用和影響，特別是拋光液中的磨料粒徑和磨料的分散均勻度直接影響著拋光面的光亮度。因此對拋光磨料比如氧化鋁、氧化硅、碳化硅等磨料的配置進行研究有著非常重要的意義。進過IKN高剪切納米膠體磨制備的氧化鋁拋光液，分散度好，粒徑分布均勻，流動性也好。

氧化鋁拋光液高剪切研磨機/三氧化二鋁高速膠體磨/氧化鋁研磨專用設備氧化鋁拋光液高剪切研磨機由電動機、連接體、磨頭等組成，磨盤采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼鍛壓制成，磨盤表面有三個以上溝槽，分為三級。每一級的溝槽刀齒數(shù)量、方向及寬度不同，越是向外延伸一級，片精度越高、齒距越小、線速度越長、物料越磨越細、刀齒的數(shù)量越多、剪切面越大、線速度越長、流體速度越快、細化效果越好。機械密封分;硬質(zhì)內(nèi)裝機械密封、外裝雙面硬質(zhì)機械密封、金屬波紋硬質(zhì)機械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據(jù)需要可以進行特殊氣化處理，增強刀齒的硬度，起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉(zhuǎn)磨與定磨可根據(jù)物料粘度、產(chǎn)量、顆粒細度進行手工調(diào)節(jié)，其功效為剪切率大、線速度長、無死角、處理量大、均質(zhì)細化效果好。轉(zhuǎn)速X可達1400m，配各ABB變頻電機，研磨分散機是IKV研發(fā)工程師將膠體磨與分散機整合研發(fā)出來的一款新產(chǎn)品，此款產(chǎn)品是目前市場上僅有的一款同時具備研磨、分散、乳化等多功能的一款研磨分散設備，研磨分散機是IKN與實驗客戶共同智慧的結(jié)晶。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和最終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制,

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。

5本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料;物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

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