詢價(jià)
- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：廣州
- ?樣品盤尺寸：?175mm\t
- 溫控范圍：室溫~200C
- 控溫精度：0.1C
- UV光源波長(zhǎng)：185nm和254nm
紫外臭氧清洗儀主要參數(shù)：
| 應(yīng)用范圍 | 芯片，晶圓，光學(xué)鏡片等超精密器件的無(wú)損傷清洗 | |
| 型號(hào) | OC100 | OC300 |
| 樣品盤尺寸 | 175mm | 350mm |
| 儀器尺寸 | 300*260*230mm | 300*260*230mm |
| UV光源波長(zhǎng) | 185nm和254nm | |
| 溫控范圍 | 室溫~200C(控溫精度0.1C) | |
| 清洗模式 | 臭氧自生成模式/外接臭氧模式 | |
| 清洗時(shí)間 | 1~999分鐘連續(xù)可調(diào) | |
| 顯示屏幕 | 5寸高清彩色液晶屏 | |
紫外臭氧清洗儀是一款集高效能、綠色環(huán)保與高精度于一體的表面處理設(shè)備，專為滿足科研實(shí)驗(yàn)及工業(yè)化生產(chǎn)中對(duì)材料表面潔凈度的嚴(yán)苛要求而設(shè)計(jì)。該設(shè)備的核心技術(shù)源于185nm與254nm雙波長(zhǎng)紫外光源的協(xié)同作用：185nm波長(zhǎng)的紫外光能夠裂解空氣中的氧氣產(chǎn)生高活性的臭氧及氧原子，而254nm波長(zhǎng)的紫外光則能有效分解由光反應(yīng)生成的臭氧，并激發(fā)污染物分子。兩者共同作用，通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)將材料表面的有機(jī)物、油脂、光刻膠殘留及微顆粒污染物迅速分解為水和二氧化碳等揮發(fā)性氣體，從而實(shí)現(xiàn)從分子層面徹底剝離污染物的深度清潔。
在操作過(guò)程中，該設(shè)備無(wú)需借助任何化學(xué)溶劑或腐蝕性試劑，完全依靠物理與化學(xué)相結(jié)合的干法清洗機(jī)制，不僅大幅降低了耗材成本，更避免了化學(xué)廢液排放帶來(lái)的環(huán)境壓力。其溫和的清潔方式確保了對(duì)硅片、石英、金屬、陶瓷等多種基材表面無(wú)損傷，尤其適合對(duì)表面精度要求極高的光學(xué)元件、半導(dǎo)體芯片、生物芯片及航空航天精密部件的預(yù)處理。無(wú)論是用于提升材料表面親水性、增強(qiáng)鍍膜附著力，還是用于實(shí)驗(yàn)前的潔凈準(zhǔn)備，紫外臭氧清洗儀都能在保證清潔效果的同時(shí)，相對(duì)限度地保護(hù)樣品完整性。
憑借其非接觸式的處理特性、均勻的清洗效果以及可精準(zhǔn)控制的工藝參數(shù)，這款設(shè)備已廣泛應(yīng)用于高校實(shí)驗(yàn)室、微電子制造、醫(yī)療器械表面改性以及新材料研發(fā)等領(lǐng)域，成為推動(dòng)高精尖制造與科研創(chuàng)新的關(guān)鍵工具。其綠色、高效且無(wú)損的特點(diǎn)，使其在現(xiàn)代清潔技術(shù)中占據(jù)了不可替代的地位。
