一、用途：保密。
二、技術指標：
1.蒸鍍室限真空度：5×10-5Pa，系統漏率：1×10-7PaL/S；壓升率：停泵關機12小時后真空度小于等于5Pa；
2.真空腔從大氣到2×10-a時間小于3 0分鐘；
3.泄漏小于1×10-7PaL/S；
4.熱蒸發裝置為兩個蒸發舟，含加熱和控溫裝置，控溫要求：&plun;1℃程序可控；
5.公轉架轉速（即換位轉速）在0～30轉/分鐘，自轉架轉速在0-60轉/分鐘之間程序可調；
6.在腔體內的工件架須樣品的法線方向與鉛垂直方向的夾角在15°～45°之間連續可調，在調節桿上作出角度調節標記，以方便調節；
7.工件架上的樣品基片可以通過紅外燈進行加熱，加熱溫度從室溫到200℃程序可調可控；
8.基片架中心和蒸發源之間的距離的調節范圍為200～300 mm；在調節桿上標注出蒸發源口離樣品中心的垂直距離。
三、主要組成：
該蒸鍍設備主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、熱蒸發源系統、E型電子及控制電源系統、膜厚測試系統、擋板系統、烘烤照明系統、水冷卻循環及報警系統、電控及計算機控制系統、臺架系統、輔助系統等組成。
二、技術指標：
1.蒸鍍室限真空度：5×10-5Pa，系統漏率：1×10-7PaL/S；壓升率：停泵關機12小時后真空度小于等于5Pa；
2.真空腔從大氣到2×10-a時間小于3 0分鐘；
3.泄漏小于1×10-7PaL/S；
4.熱蒸發裝置為兩個蒸發舟，含加熱和控溫裝置，控溫要求：&plun;1℃程序可控；
5.公轉架轉速（即換位轉速）在0～30轉/分鐘，自轉架轉速在0-60轉/分鐘之間程序可調；
6.在腔體內的工件架須樣品的法線方向與鉛垂直方向的夾角在15°～45°之間連續可調，在調節桿上作出角度調節標記，以方便調節；
7.工件架上的樣品基片可以通過紅外燈進行加熱，加熱溫度從室溫到200℃程序可調可控；
8.基片架中心和蒸發源之間的距離的調節范圍為200～300 mm；在調節桿上標注出蒸發源口離樣品中心的垂直距離。
三、主要組成：
該蒸鍍設備主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、熱蒸發源系統、E型電子及控制電源系統、膜厚測試系統、擋板系統、烘烤照明系統、水冷卻循環及報警系統、電控及計算機控制系統、臺架系統、輔助系統等組成。
