(一). 多功能電子束光刻設備Pioneer Two:
Pioneer Two是一款比的成套的電子束光刻設備，采用30kV Gemini電子束技術(shù)，應用于2英寸以下晶圓的納米級光刻、高分辨成像及低壓電子束光刻。
20keV下在HSQ膠上曝光亞8nm線條
(二). 多功能電子束光刻設備eLine Plus:
eLine Plus是一款集成了納米操縱設備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導過程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件的電子束光刻設備，廣泛應用于學校和各大科研機構(gòu)，采用30kV Gemini電子束技術(shù)，應用于4英寸以下基板的納米級光刻、納米工程、納米操縱、納米探測、納米輪廓儀、聚焦電子束誘導和成像分析等。
HSQ膠上制作亞5nm線條
(三). 型電子束光刻設備Raith150 Two:
Raith150 Two是一款高分辨電子束光刻設備，采用30kV Gemini電子束技術(shù)，應用于8英寸以下基板（可曝光面積6英寸）的納米級光刻、高分辨成像及低壓電子束光刻，可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)。
HSQ膠上制作亞4.5nm線條及PMMA膠上制作精細的11nm線條
(四). 型電子束光刻設備Voyager:
Voyager是一款比采用的eWrite體系結(jié)構(gòu)的電子束光刻設備，采用50kV eWrite 電子束技術(shù)，應用于8英寸以下基板（可曝光面積6英寸）的直寫，適合衍射光學元件、偽元件的加工及化合物半導體器件的加工。
HSQ膠上制作亞7nm線條
(五). 型電子束光刻設備EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自動化的電子束光刻設備，采用100kV EBPG 電子束技術(shù)，應用于8英寸以下基板（5150可曝光面積6英寸、5200可曝光面積8英寸）的高深寬比納米結(jié)構(gòu)曝光、電子束直寫，適合偽標識的加工及化合物半導體器件的加工。
制作GaAs T型器件及在化合物半導體上的應用
(六). 納米加工和納米光刻升級配件Elphy:
Elphy系列光刻升級配件可以將現(xiàn)有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦離子束電子束系統(tǒng)升級為納米光刻和納米加工設備。
