四川超邁智能裝備有限公司
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張先生先生(聯(lián)系我時(shí)，請說明是在維庫儀器儀表網(wǎng)看到的，謝謝)
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刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的精密刻蝕。對復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。
設(shè)備尺寸：1200*1500*1800mm。
極限真空：優(yōu)于≤8.0×10-5Pa。
樣品尺寸：6英寸向下兼容。
刻蝕類型：物理刻蝕。
刻蝕氣體：Ar、O2。
刻蝕氣體流量：0~100sccm。
離子源類型：考夫曼直流離子源，角度可調(diào)。
