該設(shè)備為電阻、電子束或電阻電子束復(fù)合鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜，過流部件均采用SUS304制造，真空系統(tǒng)后置，標(biāo)準(zhǔn)配置分子泵系統(tǒng)，標(biāo)配工業(yè)級(jí)人機(jī)界面和西門子PLC系統(tǒng)，手動(dòng)和自動(dòng)模式自由切換，能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產(chǎn)和科研院所客戶科研實(shí)驗(yàn)的需求。該系列設(shè)備不提供全手動(dòng)操作控制系統(tǒng)。

形式：箱式一體機(jī)，立式前開門，蒸發(fā)室和抽氣室為整體焊接式，一體機(jī)系統(tǒng)。

真空系統(tǒng)：極限真空5X10^-4Pa，主泵為復(fù)合分子泵。

真空測(cè)量：配三路數(shù)字復(fù)合真空計(jì)，均采用安全防爆金屬測(cè)量規(guī)。

工件架系統(tǒng)?？蛻粜枨蠖ㄖ?，配置可擴(kuò)展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝，轉(zhuǎn)速3～30rpm變頻可調(diào)，工件盤為球形和行星工件盤可選，行星工件盤成本較高。

烘烤系統(tǒng)。不銹鋼鎧裝加熱器匹配數(shù)字功率控制器和PID控制模塊，烘烤溫度300℃，溫控精度1℃，過沖不超過2℃。

電子束蒸發(fā)源。E型電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)(E型)1套，主體有屏蔽罩，單槍、單電源、單掃描，配置獨(dú)立高壓控制柜。

坩堝：坩堝1套，電動(dòng)轉(zhuǎn)位和點(diǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)位，配置無(wú)氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。

電阻蒸發(fā)源：2套電阻蒸發(fā)源。（選配）

膜厚測(cè)試系統(tǒng)。配瑞士inficon石英膜厚在線測(cè)量系統(tǒng)， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探頭。

離子源輔助沉積系統(tǒng):一套（選配離子源或高壓離子轟擊系統(tǒng)）

控制系統(tǒng)：成熟可靠的真空鍍膜控制系統(tǒng)，工業(yè)級(jí)10英寸觸摸屏和西門子PLC，能夠?qū)崿F(xiàn)抽真空、工轉(zhuǎn)烘烤、自動(dòng)充氣、自動(dòng)鍍膜、自動(dòng)冷卻放氣等鍍膜生產(chǎn)流程；支持半自動(dòng)和手動(dòng)等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動(dòng)報(bào)警和保護(hù)系統(tǒng)，采用聲光報(bào)警。

    說(shuō)明：根據(jù)用戶要求，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā)，共享知識(shí)產(chǎn)權(quán)，公司致力于工藝與設(shè)備完美匹配。