藥用輔料硬脂酸酶分散機(jī)，硬脂酸鎂研磨分散機(jī)，水溶性淀粉研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂高速分散機(jī)，硬脂酸鎂高剪切研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂管線式分散機(jī)，硬脂酸鎂進(jìn)口研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂衛(wèi)生級(jí)研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂在線式研磨分散機(jī)

硬脂酸鎂為白色輕松無(wú)砂性的細(xì)粉;微有特臭;與皮膚接觸有滑膩感。本品在水、乙醇或乙醚中不溶，主要用作潤(rùn)滑劑、抗粘劑、助流劑。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒，制成的顆粒具有很好的流動(dòng)性和可壓性。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑、澄清劑和滴泡劑，以及液體制劑的助懸劑、增稠劑。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇)IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過(guò)投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對(duì)處理過(guò)的物料再次進(jìn)行剪切(原理同上)，從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對(duì)于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研式分散機(jī)是由錐體,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

藥用輔料硬脂缽礬灣釹桕纮饈頏奈臉?lè)稚C(jī)，硬脂酸鎂研磨分散機(jī)，水溶性淀粉研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂高速分散機(jī)，硬脂酸鎂高剪切研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂管線式分散機(jī)，硬脂酸鎂進(jìn)口研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂衛(wèi)生級(jí)研磨分散機(jī)，硬脂酸鎂在線式研磨分散機(jī)