二氧化硅納米級研磨分散機，管線式納米二氧化硅研磨分散機，IKN進口膠體磨，納米級研磨分散機，立式膠體磨，多功能納米級研磨分散機，高剪切膠體磨

納米二氧化硅是一種無機化工材料，俗稱白炭黑。由于是超細(xì)納米級，尺寸范圍在1~100nm，因此具有許多特的性質(zhì)，如具有對抗紫外線的光學(xué)性能，能提高其他材料、強度和耐化學(xué)性能。用途非常廣泛。納米級二氧化硅為無定形白色粉末，無味、，微結(jié)構(gòu)為球形，呈絮狀和網(wǎng)狀的準(zhǔn)顆粒結(jié)構(gòu)，分子式和結(jié)構(gòu)式為SiO2，不溶于水。

制作方法

（1）物理法

物理法一般指機械粉碎法。利用超級氣流粉碎機或高能球磨機將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細(xì)產(chǎn)品。該法工藝簡單但易帶入雜質(zhì).粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。

（2）化學(xué)法

化學(xué)法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細(xì)SiO2顆粒。化學(xué)法包括化學(xué)氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產(chǎn)方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無機酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。

高剪切均質(zhì)分散機是gao效、kuai速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度da到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子gao速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切分散機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，shun間均勻精細(xì)的分散均質(zhì)，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復(fù)，#終得到穩(wěn)定的gao品zhi產(chǎn)品。

   高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得chao細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000chao gao速分散機。其剪切速率可以chao過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設(shè)備。

速均質(zhì)分散機設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

速均質(zhì)分散機電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達

速均質(zhì)分散機電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

速均質(zhì)分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

速均質(zhì)分散機表面處理：拋光、耐磨處理

速均質(zhì)分散機進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

支持售前試機，地址：上海市松江區(qū)信頤科技產(chǎn)業(yè)園

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