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催化劑一般含有金屬氧化物顆粒，要想將顆粒打碎到1-3微米就需要很強的研磨剪切力，我公司的分散機擁有44m/s的線速度，同時可噴涂碳化鎢鈷或陶瓷涂層，可將顆?？刂圃?微米以下。

BASF催化劑分散機是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備，是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設(shè)備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。

BASF高速研磨分散機設(shè)備結(jié)構(gòu):

1由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。

2由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。CMSD2000分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。磨頭齒列深度為從開始的2.7mm到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三磨齒，但他們只能在一磨頭到另外一磨頭形成研磨效果。

同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMSD2000分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CMD2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送。

研磨分散機，顧名思義，是研磨機和分散機的結(jié)合體。它是經(jīng)過依肯眾多實驗并總結(jié)后全新研發(fā)出的一類設(shè)備，是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進行改進，添加了分散機的分散盤，使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速(高轉(zhuǎn)速21000轉(zhuǎn))研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散，同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下，物料還同時承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力，因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定、精細的高品質(zhì)產(chǎn)品!

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