膠囊包覆氫氧化鎂阻燃劑高速分散機，工業活性氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨機，改性氫氧化鎂研磨分散機，低煙無鹵氫氧化鎂阻燃劑濕法粉碎機，超紐氫氧化鎂阻燃劑研磨型膠體磨，無機添加型阻燃劑納米濕法研磨機

IKN研磨分散機能夠實現自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到全方位的清洗。

氫氧化鎂是一種新型填充型阻燃劑，通過受熱分解時釋放出結合水，吸收大量的潛熱，來降低它所填充的合成材料在火焰中的表面溫度，具有抑制聚合物分解和對所產生的可燃氣體進行冷卻的作用。分解生成的氧化鎂又是良好的耐火材料，也能幫助提高合成材料的抗火性能，同時它放出的水蒸氣也可作為一種抑煙劑。氫氧化鎂是公認的橡塑行業中具有阻燃、抑煙、填充三重功能的阻燃劑。廣泛應用于橡膠、化工、建材、塑料及電子、不飽和聚酯和油漆、涂料等高分子材料中。特別是對礦用導風筒涂覆布、PVC整芯運輸帶、阻燃鋁塑板、阻燃篷布、PVC電線電纜料、礦用電纜護套、電纜附件的阻燃、消煙抗靜電，可代替氫氧化鋁，具有阻燃效果。氫氧化鎂與同類無機阻燃劑相比，具有更好的抑煙效果。氫氧化鎂在生產、使用和廢棄過程中均無有害物質排放，而且還能中和燃燒過程中產生的酸性與腐蝕性氣體。

(1) 將氫氧化鎂微粉加入到水中，溫度控制在40-60°C，攪拌速度為300-9501·/ min，制成水相組分懸浮液；(2)將自由基體聚合單體、交聯劑和引發劑混合，攪拌均勻，制成油相組分，溫度控 制在40-60°C，攪拌速度為300-950r/min ；(3)然后將所制油相組分加入到水相組分懸浮液中，保持溫度40-60°C，并以攪拌 速度7000-10000r/min攪拌均勻，得到混合液；
(4)再將混合液的溫度升至61_90°C，攪拌反應2 5小時；(5)停止攪拌，降溫至室溫，過濾分離混合液，將氫氧化鎂膠囊分離出來，以氫氧化 鎂微粉質量3 5倍的水沖洗氫氧化鎂膠囊2 5次后，得到氫氧化鎂膠囊濕餅；(6)將氫氧化鎂膠囊濕餅烘干，得到膠囊包覆氫氧化鎂阻燃劑。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

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