基片尺寸:4英寸(100mm)直徑樣品臺旋轉:60rpm基片烘烤溫度：室溫~600 oC，控溫：±2 oC濺射靶:6英寸平面靶(150mm直徑)濺射靶安裝方式:向上濺射,基片在濺射靶下方濺射靶電源:1250W,13.56MHz,自動匹配氣路:配置兩路質量流量計,流量范圍50~100sccm基片清洗離子源:直徑140mm離子源膜厚測試功能:預留檢測儀接口真空室尺寸:Ф450,外部設置烘烤系統，烘烤溫度150oC系統極限真空度:8x10-5Pa系統從大氣到10-4Pa的抽氣時間小于30分鐘系統漏率：系統整體漏率小于10-10Pa。M3/S真空系統采用分子泵機械泵系統以上是磁控濺射鍍膜機的詳細信息，如果您對磁控濺射鍍膜機的價格、廠家、型號、圖片有什么疑問，請聯系我們獲取磁控濺射鍍膜機的新信息。
廣州市海珠區廣羊電動工具行
免企業未認證證營業執照未上傳
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